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顯微鏡LED曝光單元

更新時(shí)間:2022-10-19  |  點(diǎn)擊率:1204

顯微鏡秒變光刻機(jī)!-- 微鏡LED曝光單元


電子顯微鏡和光刻機(jī),兩個(gè)看上去風(fēng)馬牛不相及的東西,是如何結(jié)合到一起的?我們向您介紹一款無掩膜顯微鏡LED曝光單元UTA-3A-53M,能令顯微鏡秒變光刻機(jī)!

圖片5.png

該設(shè)備是一種具有高性價(jià)比的曝光裝置,其DLP固定在顯微鏡的三目鏡部分,而照相機(jī)則固定在目鏡部分??梢詫S贸绦虍a(chǎn)生的圖案投影并在顯微鏡下曝光在樣品上。

<特征> 

• 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設(shè)備。 

• 使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀,將分辨率為幾μm的任意圖案投影到涂有光刻膠的基板上進(jìn)行曝光。您可以在計(jì)算機(jī)上自由創(chuàng)建圖案。 

• 與電子束光刻相比,它更便宜,更容易,因?yàn)榭梢栽诳諝庵性诟鞣N大小和形狀的分層材料單晶薄片上形成電極。 不需要制造昂貴的電極圖案掩模。 

• 簡單易懂專用軟件,可以輕松創(chuàng)建圖案

• 通過物鏡倍率,可以從精細(xì)圖案到進(jìn)行大范圍的批量曝光

• 也可以安裝到現(xiàn)有的顯微鏡上(顯微鏡的規(guī)格另需確認(rèn))

曝光范圍:物鏡5X:約1.16×0.72mm / 物鏡100X:約60×35μm


通過標(biāo)配以下5種畫圖工具,畫任意圖案進(jìn)行曝光

                 直線          矩形                   多邊形                                             同心圓


圖片6.png


或者通過讀取外部軟件畫好的圖案進(jìn)行曝光(分辨率1280*800,BMP格式,黑白)

圖片7.png

應(yīng)用 

? 薄膜FET的電極形成和空穴效應(yīng)測量樣品 

? 從原石的石墨烯鉬中取出剝離的(薄)片,用于評估石特性的電極形成 

? 用于研發(fā)應(yīng)用的圖案形成 

? 光器件,微流控,微電子

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☆曝光前可以進(jìn)測試投影(因?yàn)槭羌t光,不會感光)

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☆用白光曝光(曝光時(shí)間可以設(shè)置

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